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空气净化工程按原理分为乱流洁净室和层流洁净室;按应用分为工业净化工程,生物净化工程; 空气净化程是一整套系统,洁净厂房设计和验收规范里就有说明。大致包括洁净室建筑装饰系统,净化空调系统,水系统、电系统、气系统等,对洁净室内的温度、湿度、照度、洁净度、静电现象进行管控,从而达到特定的工艺要求。 净化原理 气流、初效净化、空调、中效净化、风机送风、管道、净化风口、吹入房间、带走尘埃细菌等颗粒、回风百叶窗、初效净化重复以上过程、即可达到净化目的。**厂房空气净化工程
技术发展 代:银离子净化技术 简单地说就是把银块离子化吹到空气中以起到的效果缺点产品成本高,细菌杀灭率低,对几乎没有杀灭特性。产品**:早期的松下空气净化器。 第二代:离子技术 主要原理是运用静电释放负离子,吸附集中空气中的粉尘起到降尘作用,同时负离子对空气中的氧气也有电离成臭氧的作用,对细菌有一定的杀灭作用,这类产品优点是产品生产成本较低。产品**:亚都、飞利浦。 第三代:温等离子技术 主要原理是,通过给气体外加电压至气体的放电电压,使气体被击穿,产生各种强氧化性的低温等离子,并在极短时间内把接触嘉兴厂房空气净化工程
应用 空气净化工程在提高产品质量等方面有很明**的效果,据国外文献的报导,对于半导体在10000级和l00级洁净室中制造的产品通过耐压试验,在l00级洁净室和外大气环境中进行晶体管涂布扩散,100级洁净室中产品的性能分布集中,而且峰值出现在更高性能的地方。而在大气环境中的产品的性能极为分散,性能也极不稳定。可以看出,①有无空气净化,产品成品率有很大差别,②为了提高产品质量,不仅生产产品的环境需要洁净,而且其关键的原材料、配料的生产也应在洁净环境中进行. 但是,和对待任何事物不能化一样,对待空气洁净技术的作用也不能化,不能把提高产品质量的作用完全归之于它。据国外材料分析,例如对于半导体元件部门,空气洁净技术在提高产品质量方面的作用大约在整个生产中占的比重为20%,而生产工艺自动化作用的比重占60%,威尼斯人官网,其他因素占20%。当然,在已经解决了生产工艺的问题以后,空气净化就是主要矛盾,例如超大规模集成电路,没有洁净的环境,则几乎是生产不出来的。 对于需要空气净化的行业和部门有:电子、精密机械、宇宙航空、化学工业,印刷工业,原子能工业、食品工业、医药工业、医院、动物实验、注塑工业等。
空气净化工程是在一定空间范围内,将空气中的微粒子、有害空气、细菌等污染物排除,并将室内温度、洁净度、压力、气流速度与气流分布、噪音振动及照明、静电控制在某一需求范围内的工程学科。 概述 净化工程所特别设计的房间,不论外在空气条件如何变化,室内均具有维持原先所设定要求之洁净度、温湿度及压力等性能。 空气净化工程按原理分为乱流洁净室和层流洁净室;按应用分为工业净化工程,生物净化工程;空气净化程是一整套系统,洁净厂房设计和验收规范里就有说明。大致包括洁净室建筑装饰系统,净化空调系统,水系统、电系统、气系统等,对洁净室内的温度、湿度、照度、洁净度、静电现象进行管控,从而达到特定的工艺要求。
洁净室中的温湿度控制 洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。 具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,威尼斯人官网,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间不宜超过25度。 湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以***。相对湿度越高,粘附的难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产比较好温度范围为35—45%。**厂房空气净化工程
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